در اين اختراع روشي جهت احيا و فعال كردن مجدد نانو ذرات Tio2 نشانده شده بر جداره داخلي راكتور رنگبري ارايه گرديده است بر طبق اين روش جداره هايي كه فعاليت فوتوكاتاليستي آنها كاهش يافته و اثر چنداني بر رنگبر ندارند را در مجاورت مقدار معيني آب در شرايط جوش قرار داده و به آنها حرارت داده مي شود زمان تقريبي قرارگير نمونه در معرض آب جوش 90 دقيقه است و آب بايد تمامي سطح را پوشانده باشد. آزمايشها نشان مي دهند كه اگر اين زمان افزايش يابد به همان اندازه فعاليت فوتوكاتاليستي نانو ذرات نيزافزايش مي يابد سطح فتوكاتاليست پس از طي مدت زمان لازم جهت احيا از مجاورت آب خارج گرديده و خشك مي شود هر چه رطوبت باقي مانده در صفحات كمتر باشد بازده فرايند اكسيداسيون نوري بيشتر خواهد بود.